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R-14作為一款特種超低溫制冷劑，主要應用于要求溫度非常低的深冷設備中（包括科研制冷、醫用制冷等），R14同時也是超低溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微電子工業中用量的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、泄漏檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用
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